光热涂层工艺种类：传统电化学法制备光热涂层工艺；有机材料喷涂法制备光热涂层工艺；真空磁控溅射镀膜法制备光热涂层工艺。

　　1.传统电化学法制备光热涂层工艺

　　传统电化学法制备的光热涂层主要包括：阳极氧化铝膜层、黑铬膜层、黑镍膜层、黑钴膜层等。其膜层拥有较高的吸收比，耐盐雾、耐老化等物化性能良好。但采用电化学法制备工艺，膜层厚度控制精度不高，导致膜层发射比相对不够稳定，整体光热转换性能不高，同时此工艺生产能耗大，易产生有毒有害物质，影响环境及人体健康。

　　2.有机材料喷涂法制备光热涂层工艺

　　采用有机材料喷涂法制备的光热涂层拥有较高的吸收比，但是膜层的发射比相对较差，同时膜层的耐盐雾、耐老化等物化性能也不够稳定，影响膜层整体品质。

　　3.真空磁控溅射镀膜法制备光热涂层工艺

　　采用真空磁控溅射镀膜法制备的光热涂层拥有极高的吸收比与较低的发射比；但传统的磁控工艺膜系，膜层的盐雾性能等物化稳定性是其短板所在，而新型优质磁控工艺膜系在保证高吸收比、低发射比的同时，极大提高了膜层的物化性能，使其真正成为高性能光热涂层。

　　二、涂层装备与品质

　　磁控溅射涂层装备类型：批次式磁控溅射涂层装备、片式连续性磁控溅射涂层装备、卷对卷连续性磁控溅射涂层装备。

　　1.批次式磁控溅射涂层装备

　　批次式磁控溅射涂层装备，主要采用传统的真空炉，通过安装在真空炉上的小型阴极对少量基材进行溅射镀膜。此生产装备相对投资较低，但设备产能低，设备产品批次间受人工手动操作影响，导致整体性能差别较大。

　　2.片式连续性磁控溅射涂层装备

　　现阶段的片式连续性磁控溅射涂层装备多数由玻璃镀膜生产线改造而来，其生产过程繁琐，须将卷材裁切为条板后固定在托架上，然后进入真空腔室进行镀膜，镀膜完成后需从托架上将产品取出，再进行覆膜操作，因此其设备产能较低（实际年产能待验证），同时生产设备庞大，耗能较大，一次性投入较高，涂层产品性价不高。